Name: Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes (en Inglés)
Price: 204.00 USD
Availability: InStock
Author: Oluwatobi Adeleke|Sina Karimzadeh|Tien-Chien Jen (University Of Johannesburg South Africa)
ISBN: 9781032386706

portada Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes (en Inglés)

Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes (en Inglés)

Formato

Libro Físico

Editorial

Crc Press

Autor

Oluwatobi Adeleke|Sina Karimzadeh|Tien-Chien Jen (University Of Johannesburg South Africa)

Idioma

Inglés

N° páginas

376

Encuadernación

Tapa Blanda

ISBN13

9781032386706

N° edición

Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes (en Inglés)

Oluwatobi Adeleke|Sina Karimzadeh|Tien-Chien Jen (University Of Johannesburg South Africa) (Autor) · Crc Press · Tapa Blanda

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This book describes the application of machine learning modelling approaches in atomic layer deposition and presents detailed information on modelling, optimization, and prediction of the behaviour and characteristics of ALD for improved process quality control.

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