Libros importados con hasta 40% OFF + Envío gratis a todo USA  Ver más

menú

0
  • argentina
  • chile
  • colombia
  • españa
  • méxico
  • perú
  • estados unidos
  • internacional
portada Semiconductor Process Reliability in Practice (en Inglés)
Formato
Libro Físico
Año
2012
Idioma
Inglés
N° páginas
624
Encuadernación
Tapa Dura
ISBN
007175427x
ISBN13
9780071754279
N° edición
1

Semiconductor Process Reliability in Practice (en Inglés)

Zhenghao Gan (Autor) · Mcgraw Hill Book Co · Tapa Dura

Semiconductor Process Reliability in Practice (en Inglés) - Zhenghao Gan

Libro Físico

$ 155.37

$ 164.00

Ahorras: $ 8.63

5% descuento
  • Estado: Nuevo
Se enviará desde nuestra bodega entre el Lunes 13 de Mayo y el Martes 14 de Mayo.
Lo recibirás en cualquier lugar de Estados Unidos entre 1 y 3 días hábiles luego del envío.

Reseña del libro "Semiconductor Process Reliability in Practice (en Inglés)"

Publisher's Note: Products purchased from Third Party sellers are not guaranteed by the publisher for quality, authenticity, or access to any online entitlements included with the product.Proven processes for ensuring semiconductor device reliabilityCo-written by experts in the field, Semiconductor Process Reliability in Practice contains detailed descriptions and analyses of reliability and qualification for semiconductor device manufacturing and discusses the underlying physics and theory. The book covers initial specification definition, test structure design, analysis of test structure data, and final qualification of the process. Real-world examples of test structure designs to qualify front-end-of-line devices and back-end-of-line interconnects are provided in this practical, comprehensive guide.Coverage includes:Basic device physicsProcess flow for MOS manufacturingMeasurements useful for device reliability characterizationHot carrier injectionGate-oxide integrity (GOI) and time-dependentdielectric breakdown (TDDB)Negative bias temperature instabilityPlasma-induced damageElectrostatic discharge protection of integrated circuitsElectromigrationStress migrationIntermetal dielectric breakdown

Opiniones del libro

Ver más opiniones de clientes
  • 0% (0)
  • 0% (0)
  • 0% (0)
  • 0% (0)
  • 0% (0)

Preguntas frecuentes sobre el libro

Todos los libros de nuestro catálogo son Originales.
El libro está escrito en Inglés.
La encuadernación de esta edición es Tapa Dura.

Preguntas y respuestas sobre el libro

¿Tienes una pregunta sobre el libro? Inicia sesión para poder agregar tu propia pregunta.

Opiniones sobre Buscalibre

Ver más opiniones de clientes